当ASML的EUV光刻机公司还在担心制造2纳米和1纳米芯片时，美国公司在另一个先进的光刻方向上取得了突破Zyvex使用电子束光刻技术制作了768皮米，也就是0.7纳米的芯片，可用于量子计算机
Zyvex推出的光刻系统命名为ZyvexLitho1，基于STM扫描隧道显微镜，采用EBL电子束光刻制造了0.7nm线宽的芯片，这比EUV光刻系统高得多，相当于两个硅原子的宽度是目前制造精度最高的光刻系统
光刻机制造的芯片主要用于量子计算机，可以生产高精度的固态量子器件，也可以生产纳米器件和材料，对于这些器件和材料，精度非常重要。
ZyvexLitho1不仅是精度最高的电子束掩模对准器，而且是商用的Zyvex已经可以接受别人的订单，机器可以在6个月内发货
EBL电子束掩模光刻机的精度可以轻松超过EUV掩模光刻机但是这种技术的缺点也很明显，就是产量很低，无法大规模制造芯片它只适合制造小批量的高精度芯片或器件，指望它们取代EUV光刻机是不现实的
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